半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
好项目游戏 背景
该制造业企业专业化分娩半导体行业用高纯氟化氢和六氟化钨,电镀废水氟氧化还原电位相当高且材料错综复杂。增加了净化处里工学艺成效不相对稳定,氟化物排放量隔三差五重金属超标。新项目融资2300万元构建帮忙净化处里措施,规划净化处里作用500吨/天。
生产废水营养成分及来源于
污水重点来源生孩子的设备的洗條和废液洗條:
氟阴离子氧化还原电位:1500-3500mg/L
含氢氧化钠根阴离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含氢化物发生器钨、钼等黑色金属物质
净化处理加工步奏
争对高氨水浓度特征 ,应用"中合+联级积累+膜工作"方法:
化工生活污水分类别整理池:分类别分类别整理多种酸度化工生活污水
结合表现池:分时段.加药系统氢防钝化钠和氢防钝化钙,控制不可能pH至7.5-8.
斜板析出池作用池:添加PAC和PAM增強析出实际效果
斜管水解池:优质固液区分
多媒质滤出器:清掉很细微颗粒肥料
反渗透装置性和系统软件:深入脱盐和除氟
污泥处理处理精炼出现缺水体统:离心法出现缺水后污泥处理处理运输专注处理
再线监测体统体统:实时时间监察氟亚铁离子氨水浓度和pH值
然后疗效
整理软件系统执行数据资料:
漏液氟正离子的平均氧化还原电位:2800mg/L
出水出水氟化合物质量浓度:3.2mg/L(最低值)
氟的还原率:99.9%超过
水使用率:高达65%
设备定时化数量高,实行废气处理的成本降30%,年回收分类处理氟化钙副类产品约400吨。