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半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例

好项目游戏 背景 该制造业企业专业化分娩半导体行业用高纯氟化氢和六氟化钨,电镀废水氟氧化还原电位相当高且材料错综复杂。增加了净化处里工学艺成效不相对稳定,氟化物排放量隔三差五重金属超标。新项目融资2300万元构建帮忙净化处里措施,规划净化处里作用500吨/天。 生产废水营养成分及来源于 污水重点来源生孩子的设备的洗條和废液洗條: 氟阴离子氧化还原电位:1500-3500mg/L 含氢氧化钠根阴离子:2000-5000mg/L pH值:1- 含氢化物发生器钨、钼等黑色金属物质 净化处理加工步奏 争对高氨水浓度特征 ,应用"中合+联级积累+膜工作"方法: 化工生活污水分类别整理池:分类别分类别整理多种酸度化工生活污水 结合表现池:分时段.加药系统氢防钝化钠和氢防钝化钙,控制不可能pH至7.5-8. 斜板析出池作用池:添加PAC和PAM增強析出实际效果 斜管水解池:优质固液区分 多媒质滤出器:清掉很细微颗粒肥料 反渗透装置性和系统软件:深入脱盐和除氟 污泥处理处理精炼出现缺水体统:离心法出现缺水后污泥处理处理运输专注处理 再线监测体统体统:实时时间监察氟亚铁离子氨水浓度和pH值 然后疗效 整理软件系统执行数据资料: 漏液氟正离子的平均氧化还原电位:2800mg/L 出水出水氟化合物质量浓度:3.2mg/L(最低值) 氟的还原率:99.9%超过 水使用率:高达65% 设备定时化数量高,实行废气处理的成本降30%,年回收分类处理氟化钙副类产品约400吨。

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